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１１２３　真空离子镀膜

真空离子镀膜技术是近十几年来在真空蒸发和真空溅射两种

镀膜技术基础上发展起来的一种新的镀膜技术，cvd真空镀膜机器厂，最早是由美国

ＳＡＮＤＩＮ公司的 ＭＯ?ＴＴＯＸ创立的。并于１９６７年在美国获得了

专利权。这种镀膜技术由于在膜的沉积过程中基片始终受到高能

离子的轰击而十分清洁，因此它与蒸发镀膜和溅射镀膜相比较，具

有一系列的优点，所以这一技术出现后，立刻受到了人们极大地

重视。

      光学真空镀膜机主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜两部分组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在防止油污染和缩短工作周期等方面具有卓越的性能。

　　光学真空镀膜机工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。

　　真空蒸发镀膜设备的零部件的表面清洗处理是很有必要的；而且存在杂质的情况下，cvd真空镀膜设备，真空部件的链接和密闭性都有受到影响。

　　污染物杂质对真空完全是一种无用的物质，多弧离子镀膜机会根据杂质的状态将其分为固态杂质、气态杂质以及液体杂质，它们微粒的形式存在。从化学的角度看，既可以是离子的也可以是共价的，宽甸cvd真空镀膜，既是有机的也可以是无机的。

　　显露的外面的表层最容易被污染到，被污染的情况有很多种，一开始一般是由本身运转形成的。

　　要注意表层吸附、化学作用、清洁和晾干等过程、机械在各种运作过程中都有可能产生污渍使表面污染物增加。

　　前期开始注意机器的保养与清洁可以减少后期的很多麻烦，防止溅控溅射镀膜机各类小状况的发生，可提高工作效率、真空镀膜机镀膜的质量也起到相当重要的作用。