真空镀膜技术在传感器方面的应用,真空镀膜的作用是什么
在传感器中,多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说,极为敏感的半导体材料。此外,其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质,需要尽量增大其面积,且能工业化、低价格制作、因此采用薄膜的情况很多。
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生产过程时间局限性:因金属镀层长时间露置在空气中会氧化发黑,不同材料氧化速度不同,其中锡镀层氧化速度最快,8H就会明显发黑,另底漆UV静置时间如过长,漆膜太厚也会影响镀膜层附着力。故底漆UV、镀膜及面涂UV几个工序之间作业时间间隔依据实际作业经验一般限定在8-12H范围内。 故产品单位涂料用量及成本明显比普通塑胶喷涂高出很多,另底漆UV、面涂UV及色精对UV能量范围的要求也较普通UV苛刻,一般底漆UV要求800-1000mj/cm2 面涂UV要求900-1100 mj/cm2不同颜色之色精根据实际情况调整UV灯能量。