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物理的气相沉积法依据制作过程工艺不同又分为真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜。
a.真空蒸发镀膜法：在真空室(镀炉)中加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体
(待镀产品)表面，凝结形成固态薄膜的方法。
b.离子镀膜法：蒸发源的加热和真空镀膜法相同。由于系统为等离子状态，使金属离子在样品表面吸附?成膜。金属离子为高能量状态，成膜时具有离子结晶性佳、膜的密着性提高的优点。
c.溅射镀膜法：给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹，而在样品表面形成金属皮
膜的方法。
生产过程时间局限性：因金属镀层长时间露置在空气中会氧化发黑，不同材料氧化速度不同，其中锡镀层氧化速度最快，8H就会明显发黑，另底漆UV静置时间如过长，漆膜太厚也会影响镀膜层附着力。故底漆UV、镀膜及面涂UV几个工序之间作业时间间隔依据实际作业经验一般限定在8-12H范围内。 故产品单位涂料用量及成本明显比普通塑胶喷涂高出很多，另底漆UV、面涂UV及色精对UV能量范围的要求也较普通UV苛刻，一般底漆UV要求800-1000mj/cm2 面涂UV要求900-1100 mj/cm2不同颜色之色精根据实际情况调整UV灯能量。
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