由于圆柱条形磁体溅射靶的磁铁排列形式与磁环同轴圆柱靶完全不同,所以它的刻蚀沟道是两个细长形跑道式的沟道。在溅射镀膜过程中,只要永磁体的位置不变,则圆筒形靶材上的刻蚀区相对于该磁铁系统的方位是固定的。因此,当圆筒形靶材以适当的转速转动时,真空镀膜机 价格,即可对靶材进行均匀的刻蚀。在靶磁体装配时,可调整靶磁体的位置,使长环形刻蚀沟道对着基片(即使两条较短的条形永磁体正对着基片方向)。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司
实际应用表明,磁场在平行靶平面移动的阴极靶结构可使放电区内的电子跑道扩展,对靶材的溅射均匀,尤其在多成分复合靶材溅射时所得膜层的均匀性可得到改善。如图员圆鄄圆园 所示,该结构可将传统标准磁控溅射靶的靶材的利用率从圆园豫左右提高到源园豫 耀缘园豫。但是这种靶磁场结构的缺点是结构比较复杂,增加了靶的制造难度和成本。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司