铝合金小件表面处理
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潍坊宗盛电器有限公司

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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。

1936年意大利人Caboni最早提出了阳极氧化膜的电解着色专利技术,德国人Elssner 进一步改进了这个方法,在1940 年申请了专利。这使电解着色工艺成为工艺化的基础。但是当时正处于第二次世界大战的纷乱之中,而战争后的混乱也使这项工艺发明被忽略了相当一段时间。 电解着色的工业化1960 年浅田太平改进并注册了电解着色专利。该专利的特征是,利用交流电为电源,着色溶液采用Co、Ni、Cu、Ag、Se 的盐类,以及他们的含氧盐作为主成分。浅田已经明确鉴别出电解着色工艺过程的几个阶段。包括金属离子进入阳极氧化膜的微孔中,由于电解还原转化成着色的物质等。全球技术转让权由ALCAN公司获得,通过它所属的铝实验室有限公司以高标名称Anolok-1 向全世界很多国家转让推广这个技术,从此二次电解着色法得到普及。二十世纪六十年代中期至七十年代中期的10年间掀起了电解着色法的研究高潮,每年有数百篇的专利文献被发表,研究涉及到元素周期表上几乎所有的可溶性金属盐。


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