光学镀膜机-镀膜机-至成镀膜机量身订制

光学薄膜的定义

由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束一类光学介质材料，光学薄膜的应用始于20世纪30年代，光学薄膜已经广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。制备条要求件高而精。

光学薄膜的定义是：涉及光在传播路径过程中，附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层，通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性，以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或偏振分离等各特殊形态的光。

光学薄膜在我们的生活中无处不在，从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说，平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。

光学薄膜系指在光学元件或独立基板上，制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合，以改变光波之传递特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

一般来说，光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺。所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜，就是以干式涂布方式制造的产品。但是在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。

真空镀膜机原理和各部件分析一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用多的有直径1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等，腔体由不锈钢'target=_blank>不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。二、辅助抽气系统：排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2、0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。

引起镀膜玻璃膜层不均匀原因有哪些

由于残余气体的存在，不但影响膜的纯度及质量，还会产生。所以在生产中要选用高纯度的气为工作气体，严格控制真空室的漏气速率，以减小残余气体对原片及膜层的污染。将残余气体的压力控制在10Pa以下，要经常清理加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境，减少扩散泵返油对玻璃的污染。同时可适当提高阴极的溅射功率，以增加粒子动能及扩散能力，这将有利于清除被镀膜玻璃表面的残留物质，减少镀膜玻璃的。镀膜玻璃膜的膜层均匀度一般地讲，同一基片上膜层厚薄不同，就称之为膜层不均匀。引起镀膜玻璃膜层不均匀的原因是多方面的。磁控溅射靶的水平磁场强度（B）对膜层均匀度的影响磁控溅射的关键参数之一是与电场垂直的水平磁场强度B，因为水平磁场强度B要求在阴极靶的表面是一个均匀的数值。而实际生产过程中值是随着使用方法及时间的推移，产生一定的变化，而出现不均匀现象。我们从溅射过的阴极靶材的刻蚀区的变化情况就可以验证。