双靶磁控溅射镀膜仪
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。
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钙钛矿镀膜设备
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设备用途 :
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,电阻热蒸发真空镀膜机,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,电阻热蒸发真空镀膜机报价,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成:
该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。
2、真空度:镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa;
3、蒸发源系统:有机源蒸发源4个,无机蒸发源2套
4、样品架系统:样品大小为Φ150mm的样品,旋转速度为:0~30转/分;
5、样品在镀膜过程中,电阻热蒸发真空镀膜机哪家好,可烘烤加热,加热温度为:室温~190℃,测温控温。
6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?
电阻蒸发镀膜机介绍
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为热蒸发镀膜,热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
在高真空下,采用电阻式蒸发原理,电阻热蒸发真空镀膜机销售,利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料,使其在高温下熔化蒸发,从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备。
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