说明
阴性光刻胶去除剂NRR-001是由芳香化合物组成的,使用方便的低PH值去除剂。NRR-001可去除烘烤在各种基体上(如shen化镓、硅、铬等)普通阴性光刻胶。使用得当时它对于各种金属及氧化物表面无腐蚀作用。NRR-001不浸蚀聚酰亚胺。
NRR-001去除剂不含lin s 盐、铬s盐、ben酚和lv代烃。NRR-001在室温或加温条件下性能良好,槽液使用期长。如果贮放在避光的阴凉地方。其有效期可达一年之久。
化学性质和物理性质
外观 | 具有芳香气味的红色液体 |
比重(68℉) | 0.95-1.05 |
有效期 | 1年 |
PH(68℉) | <2 |
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