小型钨舟加热镀膜仪

小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD 是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。 正空蒸发镀膜包括以下基本过程：（1）加热蒸发过程：包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。 （3）蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远 低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。 编辑 以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图 原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵 115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟 真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色 技术参数 控制方式 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 加热方式 数字式功率调整器 镀膜功能 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 功率 ≤1200W 输出电压电流 电压≤12V 电流≤120A 真空度 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa 挡板类型 电控 真空腔室 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm 样品台 可旋转φ62 （可安装φ50基底） 样品台转速 8转/分钟 样品蒸发源调节距离 70-140mm 蒸发温度调节 ≤1800℃ 支持蒸发坩埚类型 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口 KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 可选配扩展 机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）