供应磁控蒸发两用镀膜设备
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东莞市
产品详情（东莞市磁控蒸发两用镀膜设备厂家）
磁控蒸发两用镀膜设备利用磁控溅射阴极辉光放电将原子（靶材）离化沉积在基材上（物理气相沉积PVD）和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化，对基材、手机壳等塑料表面进行金属化、利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用，以满足现行手机的高端电子产品制造行业标准；
设备集中了等离子体处理，高端阴极磁控溅射，、电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率高快，附着力好，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，磨擦系数低，可保持原有工件表面光洁，具有韧性好，不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层，具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点，主要适用于电脑、手机、高端工业（家用）电子电器、航空等领域，，可镀制复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等。
(东莞市磁控蒸发两用镀膜设备厂家)
供应磁控蒸发两用镀膜设备
设备集中了等离子体处理，高端阴极磁控溅射，、电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率高快，附着力好，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，磨擦系数低，可保持原有工件表面光洁，具有韧性好，不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层，具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点，主要适用于电脑、手机、高端工业（家用）电子电器、航空等领域，，可镀制复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等。
| 型号 真空室尺寸 | JLZ-1000 | JTZ-1200 | JTZ-1400 | JTZ1400 |
| ￠1000×1000MM | ￠1200×1400MM | ￠1400×1600MM | ￠1400×1900MM | |
| 制膜种类 | 金属膜、半透明膜、不导电膜、电磁屏蔽膜、介质膜等 | |||
| 电源类型 | 电阻蒸发电源、直流磁控电源、射频电源 | |||
| 溅射及电极结构 | 圆柱磁控靶、平面矩形靶、孪生靶、蒸发电极 | |||
| 真空室结构 | 立式双开门、立式单开门、后置抽气系统/卧式单开门、侧置抽气系统 | |||
| 极限真空 | 4.0×10-4PA | |||
| 真空系统组成 | 扩散泵+罗茨泵+机械泵+维持泵 | |||
| 抽气时间 | 从大气抽至8.5×10-3PA，小于或等于15分钟 | |||
| 工件运动方式 | 公自转/变频调速 | |||
| 控制方式 | 手动/自动一体化式，触摸屏+PLC | |||
| 备注 | 以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做 | |||
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