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地膜覆盖栽培的较大效应是提高土壤温度，春季低温期间采用地膜覆盖白天受阳光照射后，0－10厘米深的土层内可提高温度1－6℃，较高可达8℃以上。进入高温期，若无遮阴，地膜下土壤表层的温度可达50－60℃，土壤干旱时，地表温度会更高。但在有作物遮荫时，或地膜表面有土或淤泥覆盖时，土温只比露地高1－5℃，土壤潮湿时土温还会比露地低0.5-1.0℃，较高可低3℃。夜间由于外界冷空气的影响地膜下的土壤温度只比露地高1－2℃。地膜覆盖的增温效应因覆盖时期、覆盖方式、天气条件及地膜种类不同而异。

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日光温室里的光照强度的水平分布特点：日光温室光照强度具有上强下弱，前强后弱的特点。冬天的晴天外界光强为32 000勒克斯时，前坡中段棚膜下光强26000勒克斯，为外界光照的81.2%。离地面1米高处的光强是22 000勒克斯，为外界的67.75%。离地面0.5米高处的光强18 000～19 000勒克斯，平均为外界的57.75%。后坡下为弱光区，特别是长后坡温室，水平梯度差可达10000勒克斯/米。日光温室光强的水平分布在垂直分布上又表现为上部和下部弱，中间强的特点。

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