供应电器清洗剂配方制作技术专题/多功能清洗剂/清洗固体焊剂类资料
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成都市
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关键字：电瓷多功能清洗剂及制备方法；用于焊锡丝的免清洗固体焊剂；用于洗涤机的定量输送液体洗涤剂或者清洗剂的装置；印刷电路板清洗剂；
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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
技术编号 技术名称
(编号:CC1009214-0030-0001) 改进的用于CMP后清洗的酸性化学处理剂
[技术摘要] 本公开内容讨论半导体器件生产过程中对晶片进行化学机械平坦化(CMP)处理后清洗半导体晶片的方法。公开一种用于CMP后清洗含金属、特别是铜互连线的晶片的酸性化学处理剂。在不显著侵蚀金属、不在表面留下沉积物或不给晶片带来大量有机(如碳)污染物的条件下从晶片表面移出淤浆颗粒、特别是铜或其它金属颗粒，同时还能保护金属不被氧化和侵蚀。此外，存在至少一种强螯合试剂来将金属离子络合到溶液中，促使金属从电介质移出，并避免再沉积到晶片上。使用酸性化学处理剂能够使CMP之后所用的清洗溶液的pH与晶片表面所用的最后浆液相匹配。
(编号:CC1009214-0011-0002) 一种多功能清洗剂
[技术摘要] 一种多功能清洗剂，可用于有色金属材料及不锈钢材料的表面及容器内的油垢、水垢、锈垢的清洗，地板、卫生间及厕所的表面清洗，特别是汽车、*车、轮船、拖拉机、工程机、发电机组上的发动机水冷循环系统内的复杂污垢的清洗。本剂主要由氨基磺酸、十二烷基苯磺酸钠、烷基酚聚氧乙烯醚组成，使用时按比例加水后施入被洗物即可。对*体安全，对被洗物无**。该清洗剂使用方便，效果较好。
(编号:CC1009214-0009-0003) 电瓷多功能清洗剂及制备方法
[技术摘要] 一种电瓷多功能清洗剂，是由硅油、乳化液ＯＰ、碳酸钙、二氧化硅、工业香精、***组成，其中碳酸钙、工业香精、***可部分去掉，也可全部去掉。该产品的制备方法是先将硅油和乳化液ＯＰ先相互调匀，而后将其他几种物质一并置于密闭的旋转容器中，在一定温度、时间和一定转数下，即可制成。该产品用于对电瓷件污垢的清洗，也可用于对电气设备、机械外壳的清洗，具有清洗力强、省时、省力、对*体无*激、无损伤、清洗质量高并有保护电瓷件等优点。
[技术摘要] 本发明涉及一种能用于集成电路制造中的清洗剂。该清洗剂含有有机溶剂、去离子水、氟化物和表面抑制剂，其中有机溶剂、氟化物和表面抑制剂在清洗剂中质量百分比浓度分别是1％～80％、0.01％～20％、0.00001～10％。还可加入pH调节剂、金属防腐剂中的一种或两种，每种组份在清洗剂中的质量百分比浓度为0.01～20％。在集成电路制造过程中使用该清洗剂能够有选择性地抑制平面、*孔口和*槽口处对绝缘介质的过高蚀刻速度，同时能有选择性地增强对*孔、*槽底部和侧壁的清洗效果，使集成电路在清洗和表面处理后保持良好的器件形状，使用该清洗剂能够保*和提高集成电路中功能器件的集成度。
[技术摘要] 可清洗镜片的抗静电辐射洁净剂及其制备方法，其特征是洁净剂按重量百分比的组成为：作为乳化剂的烷基酚聚氧乙烯醚OP-10或TX-10：2-10％、十二烷基**钠：0.5-5％、二甘醇：0.3-3％、季铵盐：0.002-0.3％、聚醚改性聚有机硅氧烷SF722或SF9090：0.001-3％、氯化钠：0.01-0.2％、异丙醇：2-15％、适量香精、余量为水。本发明洁净剂清洁效果好、不损伤镜片、具有防雾防静电功能、能广泛用于对包括**镜片、光学仪器、显示屏、仪器仪表外壳等在内的镜片进行清洗。
(编号:CC1009214-0029-0020) 精密电子仪器在线清洗剂及其生产方法
(编号:CC1009214-0019-0032) 半导体器件的制造方法及用于剥离抗蚀剂的清洗装置
(成都市电器清洗剂配方制作技术专题厂家)
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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
技术编号 技术名称
(编号:CC1009214-0030-0001) 改进的用于CMP后清洗的酸性化学处理剂
[技术摘要] 本公开内容讨论半导体器件生产过程中对晶片进行化学机械平坦化(CMP)处理后清洗半导体晶片的方法。公开一种用于CMP后清洗含金属、特别是铜互连线的晶片的酸性化学处理剂。在不显著侵蚀金属、不在表面留下沉积物或不给晶片带来大量有机(如碳)污染物的条件下从晶片表面移出淤浆颗粒、特别是铜或其它金属颗粒，同时还能保护金属不被氧化和侵蚀。此外，存在至少一种强螯合试剂来将金属离子络合到溶液中，促使金属从电介质移出，并避免再沉积到晶片上。使用酸性化学处理剂能够使CMP之后所用的清洗溶液的pH与晶片表面所用的最后浆液相匹配。
(编号:CC1009214-0011-0002) 一种多功能清洗剂
[技术摘要] 一种多功能清洗剂，可用于有色金属材料及不锈钢材料的表面及容器内的油垢、水垢、锈垢的清洗，地板、卫生间及厕所的表面清洗，特别是汽车、*车、轮船、拖拉机、工程机、发电机组上的发动机水冷循环系统内的复杂污垢的清洗。本剂主要由氨基磺酸、十二烷基苯磺酸钠、烷基酚聚氧乙烯醚组成，使用时按比例加水后施入被洗物即可。对*体安全，对被洗物无**。该清洗剂使用方便，效果较好。
(编号:CC1009214-0009-0003) 电瓷多功能清洗剂及制备方法
[技术摘要] 一种电瓷多功能清洗剂，是由硅油、乳化液ＯＰ、碳酸钙、二氧化硅、工业香精、***组成，其中碳酸钙、工业香精、***可部分去掉，也可全部去掉。该产品的制备方法是先将硅油和乳化液ＯＰ先相互调匀，而后将其他几种物质一并置于密闭的旋转容器中，在一定温度、时间和一定转数下，即可制成。该产品用于对电瓷件污垢的清洗，也可用于对电气设备、机械外壳的清洗，具有清洗力强、省时、省力、对*体无*激、无损伤、清洗质量高并有保护电瓷件等优点。
联
(编号:CC1009214-0014-0004) 集成电路制造中的清洗剂[技术摘要] 本发明涉及一种能用于集成电路制造中的清洗剂。该清洗剂含有有机溶剂、去离子水、氟化物和表面抑制剂，其中有机溶剂、氟化物和表面抑制剂在清洗剂中质量百分比浓度分别是1％～80％、0.01％～20％、0.00001～10％。还可加入pH调节剂、金属防腐剂中的一种或两种，每种组份在清洗剂中的质量百分比浓度为0.01～20％。在集成电路制造过程中使用该清洗剂能够有选择性地抑制平面、*孔口和*槽口处对绝缘介质的过高蚀刻速度，同时能有选择性地增强对*孔、*槽底部和侧壁的清洗效果，使集成电路在清洗和表面处理后保持良好的器件形状，使用该清洗剂能够保*和提高集成电路中功能器件的集成度。
系
(编号:CC1009214-0021-0005) 可清洗镜片的抗静电辐射洁净剂及其制备方法[技术摘要] 可清洗镜片的抗静电辐射洁净剂及其制备方法，其特征是洁净剂按重量百分比的组成为：作为乳化剂的烷基酚聚氧乙烯醚OP-10或TX-10：2-10％、十二烷基**钠：0.5-5％、二甘醇：0.3-3％、季铵盐：0.002-0.3％、聚醚改性聚有机硅氧烷SF722或SF9090：0.001-3％、氯化钠：0.01-0.2％、异丙醇：2-15％、适量香精、余量为水。本发明洁净剂清洁效果好、不损伤镜片、具有防雾防静电功能、能广泛用于对包括**镜片、光学仪器、显示屏、仪器仪表外壳等在内的镜片进行清洗。
电
(编号:CC1009214-0010-0006) 电器接点多功能清洗剂话
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