MicroLine 300影像仪 美国进口半自动CD测量系统 美国QVI影像测量仪

供应MicroLine 300 美国QVI影像测量仪

MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统。

主要技术参数：

◆    测量范围(XYZ)：标准：200×200×25mm；可选：300x300x25
◆    视场内测量精度：10nm(100X 镜头)；Z轴聚焦范围：25 mm
◆    视场内测量范围：0.5um~400um；
◆    视场内测量重复性(100x 物镜)：  晶圆上<0.010um(1δ)； 
掩模板上0.005um(1δ)； 

◆    承重：2kg

◆    标配镜头10x，可选镜头：5X, 20X, 50X, 100X

MicroLine^TM 300是一款高性能测量晶圆、光罩、MEMS和其他微加工设备等关键尺寸的自动化测量系统。该系统配备了高质量光学显微镜和精密移动平台，可对200mm的晶圆上0.5微米到400微米的特征尺寸进行全自动的精密视场测量。

n 200 x200mm精密X-Y平台

n 基于视觉的自动聚焦获得很好影像质量

n 自动照明可编程光强

n 用于测量透明层、不规则边缘的线、厚膜等的强劲性能

n 完全可编程的序列，包括自动聚焦和关键尺寸测量

n 电动的6目物镜转换器，软件控制

n 可选的透射照明

技术规格：

- 测量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ)

- 平台运行: 交叉滚轴手动同轴定位和快速释放

- 视场内的测量精度: 0.010微米 (用100x物镜)

- 特征尺寸: 视场内0.5微米 - 400微米

- FOV测量重复性: <0.010?m on wafers (用100x物镜)

<0.005微米 on photomasks (用100x物镜)

- 照明: 石英卤素灯, 反射光

自动照明

- 低噪音CCD VGA格式摄像头

- 图像处理60帧每秒

MicroLine 300的典型应用包括：

l 晶圆

l 光罩

l MEMS

l 微型组件

测量类型:

n 关键尺寸:

线宽 Linewidth

节距 Pitch

间隙 Spacing

n Overlay

Multi-layer registration

Box in box

Circle

Edge roughness

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