Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 离子蚀刻机20IBE-C 离子蚀刻机伯东

产品描述 上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 产品优势： Hakuto 离子蚀刻机 IBE 主要优点: 1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用. 2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用. 3. 配置使用美国考夫曼离子源 4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状. 5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻. 6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面. 7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程. Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 技术参数： Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C技术参数: portant;"> 离子蚀刻机φ4 inch X 6片 portant;"> 基板尺寸 portant;"> < Ф3 inch X 8片 < Ф4 inch X 6片 < Ф8 inch X 1片 portant;"> NS 离子刻蚀机 可选 portant;"> 样品台 portant;"> 样品台可选直接冷却 / 间接冷却0-90度旋转 portant;"> 离子源 portant;"> 20cm 考夫曼离子源 portant;"> 均匀性 portant;"> ±5% for 8”Ф portant;"> 硅片刻蚀率 portant;"> 20 nm/min portant;"> 温度 portant;"> <100 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成： Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 组成: NS 离子蚀刻机 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 蚀刻速率： Hakuto 离子蚀刻机通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率: NS离子蚀刻机