纯度氧化铜生产工艺技术专题资料光盘
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纯度氧化铜生产工艺技术专题资料光盘

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成都市

成都万宁达科技有限公司

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第  13  年
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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示,我们仅列出前5项技术的摘要信息,更多信息将以光盘形式提供):
序号                             技术名称
1 利用多杂低品位氧化铜矿制取优质**铜的方法
[技术摘要] 本发明属于金属化合物的生产及精制,特别是利用含有多种杂质的低品位氧化铜矿制取优质**铜的方法。它是用**与氧化铜矿粉进行化学反应制得粗制**铜溶液,然后通过吸附分离和解吸再生的方法,有效快速地分离杂质,从而制得40%以上的精制**铜溶液,极大地减少了溶液的蒸发量。该方法提供了一种简单易行的除杂方法,从而制得96%以上纯度的**铜晶体。这种方法不但工艺路线短,能耗低,而且综合利用经济效果好,值得在产矿区广泛推广应用。

2 碳氨法浸取氧化铜矿电积沉积铜粉工艺
[技术摘要] 一种氨浸氧化铜矿电积沉积铜粉的工艺方法,它是采用将氧化铜矿石粉碎,在搅拌反应釜中加入氢氧化铵,碳酸氢铵,开动搅拌器,同时加入氧化铜矿粉,用蒸汽加热,保持时间3—4小时,取样化验合格后,放入吸滤槽中吸滤,滤液放入电解槽内进行电解,溶液由蓝色变为无色时即为合格。本方法,具有工艺简单,成本低的特点。并且可直接采用氨浸溶液电解积沉积铜粉,同时对硫化铜矿和氧化铜矿都可以同时浸取,电积沉积铜粉能够一步产生高纯度的铜产品。

3 单斜晶系晶态氧化铜的制备方法及用途
[技术摘要] 一种单斜晶系晶态氧化铜的制备方法及用途,它包括如下步骤:a.在反应容器中加入浓度为5~50%,体积为反应容器体积的30~80%的氢氧化钠或者氢氧化钾水溶液,预热至30~100℃,然后加入晶态碱式氯化铜,加入量为氢氧化钠摩尔数的1/6~1/3,在反应温度为30~100℃及搅拌条件下反应10~60分钟;b.反应后的物料经洗涤、抽滤、离心、干燥,制得晶态氧化铜;c.将晶态氧化铜用物理方法粉碎,制得粒度更细的活性氧化铜。该方法易于使碱式氯化铜和氧化铜与其它水溶性背景盐实现分离,且工艺简单、生产成本低,制备的晶态氧化铜收率高,纯度高,活性高,质量优良,适合规模化生产。

4 一种通过酸性含铜废液制备高纯氧化铜粉的方法
[技术摘要] 一种通过酸性含铜废液制备高纯氧化铜粉的方法,该方法将酸性含铜废液与沉淀剂(如碳酸氢盐、碳酸盐、氨水、氢氧化钠或氢氧化钾等)混合发生反应,直到铜离子完全沉淀;沉淀浆料经过过滤后,用洗涤剂洗涤(含有一定量电解质的水溶液),然后用水进行洗涤;将洗涤得到的含铜物料进行烘干、煅烧和粉碎即得到高纯超细的氧化铜粉。酸性含铜废液可以是印制电路板生产中产生的酸性蚀刻废液。本发明所得氧化铜粉纯度高,工艺简单,生产成本低,经济效益高,适于工业化生产。

5 生产碱式碳酸铜或氧化铜的一种高效工艺方法
[技术摘要] 同步生产碱式碳酸铜或氧化铜的一种高效工艺方法,在浸取合成反应中,是将铜料加到碳酸氢铵溶液中,反应温度为50℃—70℃,并在反应全过程中连续或间歇加入氨气或氨水,反应中的加压空气,只需1.2个标准大气压以上的*压,同时在热分解中去掉了二氧化碳增加剂,采取全过程常压或*压可得氧化铜试剂或采取前期常压或*压分解,后期负压分解则得碱式碳酸铜,热分解终点pH取7—8。本发明为老工艺成本的60%~80%,产品质量稳定,纯度高,易操作,具有较强的实用性和显著的经济效益。

6 铜污泥资材化回收高纯度氧化铜之装置
0
7 用氧化铜矿石直接生产**铜的方法
2
8 一种简易可控制备叶状* 纳米氧化铜二维组装体的方法
8
9 纳米氧化铜**的制备方法
|
10 一种电子级高纯氧化铜超细**的制备方法
6
11 铜包钢氨浸法制氧化铜或**铜
6
12 线路板**双氧水*蚀废液制取氧化铜系统及其生产方法
9
13 用氧化铜矿石直接生产**铜的新工艺
2
14 纳米氧化铜的应用及其制备方法
3
15 氢氧化铜或氧化铜的制备方法
3
16 低品位氧化铜矿生产**铜的方法
1
17 一种纳米氧化铜抗菌剂的制备方法
6
18 氧化铜-氧化铟复合纳米晶材料的制备方法
19 线路板**双氧水系*蚀废液回收制取氧化铜系统



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