产品详情(武汉市激光刻膜机厂家)
设备性能 SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器),光点固定不动,工作台带动电池板两维运动,或两维分离,光点沿X轴运动,电池板沿Y轴运动,刻膜专用X-Y工作平台,伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动,或X轴直线电机驱动,通过界面友好的专用控制软件,方便刻膜路径的编辑和修改,利用分光系统,同时完成两路或四路激光同步输出。 应用领域 薄膜太阳电池TCO膜、a-Si膜(μc-Si膜)、Al膜(ZnO膜)的刻膜或划线。 综合技术参数 型号规格 SDF50B SDF10D SSF10B SSF5D 激光波长 1064nm 532nm 1064nm 532nm 激光功率 50W 10W 10W 5W 激光重复频率 200Hz~50kHz 1kHz~100kHz 刻膜线宽 80μm 50μm 刻膜速度 200mm/s 600mm/s 刻膜精度 ±10μm ±10μm 工作台幅面 1250×640mm 或 1100×1400mm 冷却方式 恒温水冷 风冷 http://www.suniclaser.cn/FeiJingGueiBaoMoTaiYangNengDianChiShengChanXian/JiGuangKeMoJi/
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