真空扩散炉_合肥日新_上海扩散炉

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扩散炉总体主要由控制部分、推舟净化部分、电阻加热炉部分、气源部分所组成。那么出现故障时该怎么处理呢？

①扩散源出现故障时，应先关闭相应的气路的手动阀，并暂停工艺运行，真空扩散炉，待排除故障后才能继续扩散工艺。

②炉子超温，会自动切断加热电源并发出声光警报，此时应先查找原因，待故障处理后再重新开启加热。

③如发生液源溢出，要立即擦拭干净，并暂停工艺，仔细检查源瓶是否破裂。

扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一。它的主要用途是对半导体进行掺杂，上海扩散炉，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，真空扩散炉价格，以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺可以使用离子注入的方法进行掺杂，但是热扩散仍是最主要、最普遍的掺杂方法。硅的热氧化作用是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应，生长一层二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化（含氢氧合成）两种，扩散炉是用这两种氧化方法制备氧化层的必备设备。扩散炉是半导体集成电路工艺的基础设备，它与半导体工艺互相依存、互相促进、共同发展。

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